上海復(fù)合鹽霧腐蝕試驗箱非標(biāo)訂做廠家

四：參數(shù)要求

注：可以根據(jù)客戶要求，定制非標(biāo)尺寸

1. 試驗箱內(nèi)溫度控制系統(tǒng)

溫度控制系統(tǒng)用于鹽沉積試驗時控制試驗箱內(nèi)環(huán)境溫度。溫度控制系統(tǒng)至少應(yīng)包括加熱、制冷、傳感器、控制程序及顯示器五部分系統(tǒng)。在加熱或降溫過程中，箱體空間溫度達(dá)到設(shè)置溫度±5 ^oC范圍時，溫度控制程序應(yīng)及時響應(yīng)，降低加熱或降溫功率，避免出現(xiàn)過熱或過冷現(xiàn)象。觸摸屏上可以觀察加熱速率，并同時可以觀察溫度變化曲線。溫度穩(wěn)定之后，整個試驗箱空間內(nèi)溫度場分布均勻。

• 溫度控制范圍0 ^oC-50 ^oC；
• 誤差范圍<±2 ^oC；
• 響應(yīng)時間<1s；
• 溫度均勻度：≤2℃
• 能持續(xù)工作60天以上；
• 提供試驗箱內(nèi)溫度場分布實測及模擬分析報告。
  1. 試驗箱內(nèi)濕度控制系統(tǒng)

濕度控制系統(tǒng)用于鹽沉積試驗時控制試驗箱內(nèi)環(huán)境濕度。濕度控制系統(tǒng)應(yīng)至少包括除濕機(jī)、加濕機(jī)、濕度傳感器、控制程序及顯示器五部分系統(tǒng)。觸摸屏上可以觀察加濕或抽濕速率，并同時可以觀察濕度變化曲線。在加濕或除濕過程中，箱體空間濕度達(dá)到設(shè)置濕度±20%范圍時，濕度控制程序應(yīng)及時響應(yīng)，降低加濕或除濕功率，避免出現(xiàn)過濕或過干現(xiàn)象。濕度穩(wěn)定之后，整個試驗箱空間內(nèi)濕度場分布均勻。主要的技術(shù)參數(shù)和要求如下：

• 濕度范圍30%-；
• 誤差范圍<10%；
• 能持續(xù)工作60天以上；
• 提供試驗箱內(nèi)濕度場分布實測及模擬分析報告。
  1. 試樣表面溫度控制系統(tǒng)

試樣表面溫度控制系統(tǒng)用于鹽沉積試驗時控制金屬試樣表面溫度。采用電阻絲加熱方法，試驗箱內(nèi)應(yīng)至少設(shè)置三組水平方向和豎直方向的電阻絲，至少同時控制三種不同的溫度。試驗箱內(nèi)屬于高腐蝕環(huán)境，電阻絲表面必須做防腐處理；且每組電阻絲上面能夠放置并固定金屬試片，具體技術(shù)參數(shù)和要求如下：

• 溫度控制范圍為20 ^oC-150 ^oC；
• 誤差范圍<±2 ^oC；
• 每根電阻絲的長度小為30cm；
• 能持續(xù)工作60天以上；
• 防腐要求：電阻絲表面使用聚四氟乙烯套管進(jìn)行防腐處理；
• 試樣固定要求：電阻絲表面有相應(yīng)固定試樣的工具及措施。
  1. 試驗箱內(nèi)鹽粒子濃度控制系統(tǒng)

鹽粒子濃度控制系統(tǒng)用于鹽沉積試驗時控制試驗箱內(nèi)鹽含量。制造商應(yīng)明確指出控制鹽粒子濃度方法、原理，并給出鹽粒子在整個空間的分布情況，其具體參數(shù)和要求如下：

• 鹽含量范圍：0 mg/m³-1000 mg/m³；
• 能實時顯示箱內(nèi)鹽粒子含量；
• 鹽粒子在整個空間內(nèi)分布均勻；
• 能持續(xù)工作60天以上；
• 能夠持續(xù)補(bǔ)充沉降及排出的鹽粒子。
  1. 氣體流動控制系統(tǒng)

氣體流動控制系統(tǒng)用于箱體內(nèi)氣體流動速率及方向調(diào)節(jié)。設(shè)計裝置時，應(yīng)對箱體內(nèi)空間進(jìn)行流體動力學(xué)分析，并根據(jù)分析結(jié)果采取改進(jìn)措施，在測試過程中，要求試驗箱內(nèi)氣體流場分布均勻，試樣上方的流體速率與設(shè)計數(shù)值相同。具體技術(shù)參數(shù)和要求如下：

• 風(fēng)速范圍：0-10 m/s；
• 誤差范圍：<±0.2 m/s；
• 能持續(xù)工作60天以上；
• 試樣上方流場分布均勻。